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TRIBO Series系列电弧/磁控溅射多功能镀膜设备

       真空室选项——野马的高度可配置的解决方案从一个室选择基于数量的来源。高达8沉积位置可以配置一系列的沉积来源和电源配置。

 

        野马的系统可以配置为单沉积技术,包括专用或者通过结合沉积方法混合解决方案就多达8个不同的沉积方法。标准涂层面积24英寸或48英寸的高度、24-38英寸直径与单一旋转或多个行星自转。

        系统平台——高度可配置的产品组可以使广泛的摩擦学过程配置和简单的升级或改造,为未来的应用。基本系统包含了所有的工业设计的特性,使得野马真空系统成功的兼容许多行业。

  • 推动工业控制平台与配方,触摸屏工业PC接口
  • 工业系统设计符合人体工程学的证明维护和确保运行正常
  • 高正常运行时间的解决方案,利用一级零部件供应商与全球支持
  • 单或双门设计与集成的工具来最大化的生产能力

 

规格
●双层不锈钢水夹套真空室设计。
●快速装卸屏蔽罩和行星转台的设计。
●行星旋转衬底转台分成三层。
●多个屏蔽辐射元素为衬底加热与热电偶反馈提供允许温度监测与控制基板的温度最大的高达600°C。
●2 x直流和交流线性辉光放电阵列,用于等离子体预处理、离子辅助沉积或PACVD面涂层。
●灵活的单(1)到6(6)单独关闭阴极靶位可供各种溅射、蒸发& PACVD沉积源包括:
1、专利的高功率密度(高达30 w/平方厘米)、不平衡或平衡磁控管为直流、脉冲直流、交流、射频和HIPIMS溅射操作。
2、矩形和圆形80 - 200 a引导电弧蒸发阴极。
3、热丝、脉冲直流、交流和射频PACVD。
4、热、电子束蒸发。
5、直流、脉冲直流、交流或射频衬底偏置电压为定制离子辅助增长递送。


●标准矩形阴极尺寸的6 x 30英寸和6 x 54英寸(其他请求)。
●PLC / Windows PC控制与综合颜色触摸屏。多个用户选定的配方可以从人机界面,几乎无限的配方存储在主机电脑。网络/调制解调器进行远程访问“实时”诊断运行或过程监控。
●多个质量流量控制器(通常是Ar、N2 CxHy,O2和备用)工作&活性气体输送和净化控制。
●干燥剂排气作为标准。
●标准溅射&弧电源(额外的制造商和配置要求):
●直流电源- 5-30KW甚至高达180千瓦大功率电源
●脉冲直流电源- 5-30KW
●AC /中频功率- 5 - 150千瓦
●射频功率- 5-15KW
●HIPIMS(高功率脉冲磁控溅射)力量——40千瓦(高功率峰值高达8 mw)
●引导弧- 80 a,120或200一个


标准泵的配置和选择:

●1 x爱德华兹GXS250/2600粗&罗茨泵方案。
●2 x爱德华兹STP-iXA 2206 5轴,磁悬浮,涡轮分子泵。

 

可选的:
●Leybold SV 630或1200机械水泵WH4400 SV与罗茨泵。
●WH4400 Leybold双干泵与罗茨泵
●20英寸的瓦里安扩散泵
●MaxCool 4000 Polycold
●其它要求

●生产&自动化选项:
●单室门、手动操作。
●双室门、手动操作。
●简单加载/卸载行星旋转唱盘&携带手推车。
●单或2位置完全自动转盘可以水平或垂直地提出根据夹具。

 


 

  
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